激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器，六粒徑通道，半導(dǎo)體等工業(yè)潔凈檢測(cè)

激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器的工作原理是光散射現(xiàn)象。當(dāng)空氣中的微粒在激光束的照射下，會(huì)發(fā)生散射，散射光的強(qiáng)度與微粒的表面積成正比，可以推斷出微粒的大小和數(shù)量。通過(guò)內(nèi)置的采樣泵抽取待測(cè)氣體，使氣體以規(guī)定的流量通過(guò)激光頭。氣體中的塵埃粒子散射激光信號(hào)，這些散射光被光學(xué)傳感器接收并轉(zhuǎn)化為電脈沖信號(hào)。隨后，這些脈沖信號(hào)經(jīng)過(guò)放大和數(shù)字信號(hào)處理，與標(biāo)準(zhǔn)粒子信號(hào)進(jìn)行比較，最終將結(jié)果以粒子數(shù)量和粒徑分布的形式顯示出來(lái)。

六粒徑通道的激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器，能夠一次采樣同時(shí)測(cè)得 0.3μm、0.5μm、1.0μm、3.0μm、5.0μm、10.0μm 這六個(gè)粒徑通道的塵埃粒子數(shù)，實(shí)時(shí)顯示各粒徑通道粒子的數(shù)目及變化情況。

在半導(dǎo)體制造行業(yè)，生產(chǎn)過(guò)程對(duì)環(huán)境潔凈度要求很嚴(yán)苛。比如在光刻環(huán)節(jié)，塵埃粒子落在晶圓上，可能導(dǎo)致光刻圖案出現(xiàn)偏差，使芯片出現(xiàn)短路、斷路等功能性故障，降低產(chǎn)品良率。在 CMP 拋光區(qū)，較大粒徑如 5.0μm - 10.0μm 的塵埃粒子，可能會(huì)在拋光過(guò)程中造成晶圓表面的劃痕，影響芯片的電學(xué)性能和可靠性。而六粒徑通道的激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器，能夠精準(zhǔn)地監(jiān)測(cè)到不同粒徑范圍的塵埃粒子濃度變化，幫助企業(yè)及時(shí)發(fā)現(xiàn)潛在的污染源。若在某一區(qū)域檢測(cè)到 0.3μm - 1.0μm 粒徑的粒子濃度異常升高，企業(yè)可排查是否是空氣過(guò)濾系統(tǒng)中針對(duì)微小粒子的過(guò)濾層出現(xiàn)了破損；若 5.0μm - 10.0μm 粒徑的粒子增多，或許可能是設(shè)備的機(jī)械運(yùn)動(dòng)部件產(chǎn)生了磨損碎屑，需及時(shí)進(jìn)行維護(hù)。

在醫(yī)藥工業(yè)的無(wú)菌藥品生產(chǎn)車間，同樣需要嚴(yán)格控制塵埃粒子。對(duì)于 A 級(jí)區(qū)，需要重點(diǎn)在線監(jiān)測(cè)≥0.5μm 粒子，動(dòng)態(tài)時(shí)其數(shù)量需≤3520/m3，靜態(tài)時(shí)≤20/m3。激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器的六粒徑通道可全面監(jiān)測(cè)不同粒徑粒子，確保生產(chǎn)環(huán)境符合標(biāo)準(zhǔn)，保障藥品質(zhì)量安全。

除了半導(dǎo)體和醫(yī)藥行業(yè)，在光學(xué)、精密機(jī)械加工等對(duì)環(huán)境潔凈度有高要求的工業(yè)領(lǐng)域，也需要六粒徑通道的激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器。它為企業(yè)提供了全面、精準(zhǔn)的潔凈環(huán)境檢測(cè)數(shù)據(jù)，助力企業(yè)及時(shí)采取措施，優(yōu)化生產(chǎn)環(huán)境，提升產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率。